CVD真空镀膜原理

在真空条件下，以120-150℃将固态粉末状的对二甲苯的二聚物加热气化，以650-700℃将气态的对二甲苯的聚物裂解为对二甲苯的活性单，气态活性单体在室温下沉积并聚合成聚对二甲苯的薄膜，此沉积方式为CVD化学气相沉积。如图所示：

parylene涂层与其它涂层

液体涂层沉膜工艺液体涂层材料常见的有聚氨酯、环氧树脂、UV胶、有机硅、丙烯酸类。这些液体涂层以喷涂或者人工刷的方式在工件的表面形成一层保护层，在此过程中容易使细小的孔隙堵塞、产生气泡、厚度较厚、厚度不均匀等情况的出现，从而不能更好的达到三防的效果。派瑞林化学气相沉积工艺(CVD)派瑞林涂层属于CVD的沉积方式，在真空状态下，由活性小分子在基材表面“生长”出敷形的聚合物薄膜涂层,它能涂敷到各种形状的表面,包括尖锐的棱边，细缝，号称“无孔不入”的深入裂缝里和内表面。涂层厚度均匀、同形、致密无针孔、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，从而使被涂敷的产品更有效的防潮、防霉（零级）、防腐、防盐雾。